Publisher's Synopsis
W tej pracy cienkie warstwy tlenku cyny indu (ITO) byly hodowane zarówno technika rozpylania magnetronowego DC jak i RF. Aby poznac szybkosc osadzania ITO, system zostal skalibrowany zarówno dla DCMS jak i RFMS, a nastepnie ITO byly uprawiane na szklanym podlozu o grubosci 70 nm i 40 nm poprzez zmiane temperatury podloza. Zbadano wplyw temperatury podloza, grubosci warstwy i metody napylania na wlasciwosci strukturalne, elektryczne i optyczne. Wyniki pokazuja, ze temperatura podloza i grubosc folii znaczaco wplywa na wlasciwosci folii, zwlaszcza na krystalizacje i rezystywnosc. Cienkie warstwy hodowane w temperaturze nizszej niz 150 oC wykazywaly strukture amorficzna. Jednakze, krystalizacja byla wykrywana wraz z dalszym wzrostem temperatury podloza. Szczelina pasmowa ITO zostala obliczona na okolo 3.64eV w temperaturze podloza 150 oC i zwiekszala sie wraz ze wzrostem temperatury podloza. Z pomiarów elektrycznych wynika, ze rezystywnosc w temperaturze pokojowej wynosila 1.28×10-4 i 1.29×10-4 D-cm, odpowiednio dla folii napylanych pradem stalym i pradem przemiennym. Zmierzylismy równiez zaleznosc rezystywnosci od temperatury oraz wspólczynnik Halla folii, a takze obliczylismy koncentracje nosników i ruchliwosc Halla.
