Paperback (30 May 2002) | German
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Die vorliegende Arbeit befasst sich mit den ersten Elementarschritten der Silizidbildung mittels MOCVD, namlich der Adsorption von Fe(CO)_5auf Si(111)7x7 Oberflachen bei Temperaturen zwischen 100K und 700K. Besondere Beachtung fand dabei die Wirkung von Silan [29] und das Verhalten des CO's, das bei der Dissoziation von Fe(Co)_5freigesetzt wird. Dabei soll untersucht werden, ob Silan koadsobiert werden muss, um epitaktische Schichten herzustellen.
| ISBN: | 9783897229242 |
| Publisher: | Logos Verlag |
| Imprint: | Logos Verlag Berlin |
| Pub date: | 30 May 2002 |
| Language: | German |
| Number of pages: | 96 |
| Weight: | 572g |
| Height: | 210mm |
| Width: | 145mm |
| Spine width: | 0mm |
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